Уже зарегистрированы?
Введите данные для входа
Регистрация
Если у вас уже есть аккаунт, войдите через форму входа.
Аккаунт успешно создан
Поздравляем! Ваш аккаунт успешно создан.
Теперь вы можете быстрее оформлять заявки, сохранять данные и отслеживать историю обращений.
Если у вас есть вопросы по работе сайта, пожалуйста, свяжитесь с нами.
Выход из аккаунта
Вы вышли из личного кабинета.
Корзина сохранена, и товары снова появятся после следующего входа.
Нанотехнологии и микрофабрикация
Нанотехнологии и микрофабрикация в каталоге LABERA.UZ. Подбор лабораторного оборудования и поставка под заказ.
Уточнить поиск
Не нашли нужное оборудование?
Отправьте запрос — мы подберём решение под ваш проект.
Система электронно-лучевой литографии серии JBX-A9
Высокоточная и высокопроизводительная система прямой записи Создано с использованием знаменитой электронной оптики JEOL для максимальной стабильности Загружаемые пластины до 300 мм Система FOUP доступна опционально Возможность расширения на другие т..
Цена по запросу
Система электронно-лучевой литографии серии JBX-8100FS
Система электронно-лучевой литографии точечной печати JBX-8100FS отличается высокой производительностью, компактностью и экономией электроэнергии. Функции Компактный размер Площадь, необходимая для стандартной системы, составляет 4,9 м (Ш) x 3,7 м (Г..
Цена по запросу
Система электронно-лучевой литографии JBX-9500FS
JBX-9500FS — это система электронно-лучевой печати (ЭЛП) напряжением 100 кВ, обеспечивающая высочайшую в мире производительность и точность позиционирования среди систем точечно-лучевой литографии. Эта система может работать с пластинами диаметром до..
Цена по запросу
Система электронно-лучевой литографии JBX-3200MVS
JBX-3200MVS — это система электронно-лучевой литографии с изменяемой формой для создания масок с размерами от 32 до 28 нм. Передовые технологии обеспечивают высокую скорость, точность и надежность. Эта система использует электронный пучок с изменяемо..
Цена по запросу
Система электронно-лучевой литографии JBX-3050MV/S
JBX-3050MV/S — это система электронно-лучевой литографии с изменяемой формой луча для масок и фотошаблонов с нормой узла до 45 нм. Передовые технологии обеспечивают высокую скорость, точность и надежность. Эта система использует электронный луч с изм..
Цена по запросу