JXA-iHP200F Автоэмиссионный электронно-зондовый микроанализатор (FE-EPMA)

Функции Электронно-зондовый микроанализатор (ЭЗМА) используется в качестве инструмента для научно-исследовательских разработок и обеспечения качества в различных промышленных областях, таких как сталь, автомобилестроение, электрические компоненты, ма..

Электронно-зондовый микроанализатор (ЭЗМА) JXA-iSP100

Функции Параметр Установка держателя с автоматической загрузкой! Быстро найдите нужную точку наблюдения! Установка образца и получение оптического изображения держателя образца (изображение «Навигация по столику») выполняется одним щелчком мыши..

JAMP-9510F Полевой эмиссионный оже-микрозонд

 Высокоточный эвцентрический предметный столик позволяет проводить ранее невозможный анализ диэлектриков. В сочетании с ионной пушкой плавающего типа это обеспечивает универсальность для работы с любыми образцами, такими как металлы и изоляционные ма..

Фотоэлектронный спектрометр JPS-9030

Благодаря новому пользовательскому интерфейсу, адаптированному для работы в японских условиях, реализован принцип «Простое и мгновенное управление для всех». Кроме того, JPS-9030, оснащённый в стандартной комплектации источником травления Кауфмана и ..

Рентгенофлуоресцентный спектрометр (РФС) JSX-1000S

JSX-1000S — это рентгенофлуоресцентный спектрометр, обеспечивающий быстрый и простой элементный анализ с помощью сенсорного экрана. Он оснащен функциями традиционного качественного и количественного анализа (метод ФП, метод калибровочной кривой), а т..

Система электронно-лучевой литографии серии JBX-A9

Высокоточная и высокопроизводительная система прямой записи Создано с использованием знаменитой электронной оптики JEOL для максимальной стабильности Загружаемые пластины до 300 мм Система FOUP доступна опционально Возможность расширения на другие т..

Система электронно-лучевой литографии серии JBX-8100FS

Система электронно-лучевой литографии точечной печати JBX-8100FS отличается высокой производительностью, компактностью и экономией электроэнергии. Функции Компактный размер Площадь, необходимая для стандартной системы, составляет 4,9 м (Ш) x 3,7 м (Г..

Система электронно-лучевой литографии JBX-9500FS

JBX-9500FS — это система электронно-лучевой печати (ЭЛП) напряжением 100 кВ, обеспечивающая высочайшую в мире производительность и точность позиционирования среди систем точечно-лучевой литографии. Эта система может работать с пластинами диаметром до..

Система электронно-лучевой литографии JBX-3200MVS

JBX-3200MVS — это система электронно-лучевой литографии с изменяемой формой для создания масок с размерами от 32 до 28 нм. Передовые технологии обеспечивают высокую скорость, точность и надежность. Эта система использует электронный пучок с изменяемо..

Система электронно-лучевой литографии JBX-3050MV/S

JBX-3050MV/S — это система электронно-лучевой литографии с изменяемой формой луча для масок и фотошаблонов с нормой узла до 45 нм. Передовые технологии обеспечивают высокую скорость, точность и надежность. Эта система использует электронный луч с изм..